硒化锌玻璃晶体是一种半导体材料，具有优异的电性能和光学性能，广泛应用于光电子、通信、显示等领域。在硒化锌玻璃晶体制备过程中，通常需要采用抛光技术，通过机械研磨和化学反应去除表面毛刺和缺陷，使晶体表面变得光滑平整。而抛光过程中，需要使用一些辅料来增加抛光效果和保护晶体表面，下面将详细介绍。

首先是机械研磨抛光的辅料，通常使用的有氧化铝（Al2O3）和氧化硅（SiO2）。氧化铝是一种硬度较高的磨料，可以快速去除硒化锌玻璃晶体表面的毛刺和凹坑，具有较好的去污效果；而氧化硅则是一种粘性较强的磨料，可以在抛光过程中形成保护膜，使表面更光滑，同时也可以避免磨料的破碎和析出，减少表面粗糙度。

其次是化学抛光的辅料，通常采用的是一些化学试剂，例如氢氟酸（HF）、氢氧化钠（NaOH）和硝酸（HNO3）。这些化学试剂可以与晶体表面发生反应，去除表面氧化物和杂质，同时也可以增加表面活性，促进研磨液的渗透和溶解作用，使抛光效果更加明显。

最后是抛光过程中需要用到的液体辅料。其主要作用是润滑和冷却，保护晶体表面和抛光头，防止研磨液温度过高、干涸或污染。液体辅料一般采用水或乙醇等纯净溶剂，也可以添加一些表面活性剂、防腐剂等，以提高润滑性和稳定性。

总之，硒化锌玻璃晶体抛光需要采用适当的辅料，才能实现高效、高质量的抛光效果。机械研磨和化学反应的辅料可以相互补充，以实现充分的去除和润滑；同时，液体辅料的选择应根据具体的抛光条件和要求来定，以达到最佳的抛光效果。